由于在后繼外延工藝中，生長薄膜時(shí)硅片背面邊緣會(huì)集富一層多晶硅，與正面邊緣形成臺(tái)階影響下一步的光刻對(duì)準(zhǔn)（工藝），為此，越來越多的外延要求對(duì)重?fù)揭r底硅片的背封層SiO2進(jìn)行邊緣去除0.3～2mm左右，即邊緣剝離。邊緣剝離利用HF與SiO2進(jìn)行反應(yīng)腐蝕，其剝離寬度根據(jù)不同客戶規(guī)格進(jìn)行控制。